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简析电镀添加剂测定仪的作用机理

更新时间:2020-12-26 点击次数:1120
   电镀添加剂测定仪结构简单、性价比好的旋转铂盘电极。循环伏安溶出分析(CVS)和循环脉冲伏安溶出分析(CPVS)是电镀行业中广泛应用的方法。许多镀层技术,特别是电路板(PCBs)制造业,这个方法是生产控制的重要组成部分。添加剂的定量是通过其对槽液主成份沉积的影响而进行间接测定。由于测量是基于生产过程发生的电极反应,所以可以直接测定添加剂的活性和效果。
  电镀添加剂测定仪的作用机理:
  金属的电沉积过程是分步进行的:首先是电活性物质粒子迁移至阴极附近的外赫姆霍兹层,进行电吸附,然后,阴极电荷传递至电极上吸附的部分去溶剂化离子或简单离子,形成吸附原子,zui后,吸附原子在电极表面上迁移,直到并入晶格。上述的*个过程都产生一定的过电位(分别为迁移过电位、
  活化过电位和电结晶过电位)。只有在一定的过电位下,金属的电沉积过程才具有足够高的晶粒成核速率、中等电荷迁移速率及提足够高的结晶过电位,从而保证镀层平整致密光泽、与基体材料结合牢固。而恰当的电镀添加剂能够提高金属电沉积的过电位,为镀层质量提供有力的保障。

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