服务热线

13701039011
网站导航
技术文章
当前位置:主页 > 技术文章 > 卡氏样品加热处理器仪器结构和控制

卡氏样品加热处理器仪器结构和控制

更新时间:2021-06-24 点击次数:1380
   卡氏样品加热处理器采用卡氏加热炉,同样具有实验重复性好、无副反应干扰和样品污染等的优点。仪器结构紧凑,操作简单。样品制备简单,只需把称重后的样品放入样品瓶,然后用封口工具密封即可。覆有PTFE膜的密封盖保证了样品在测定过程中不受环境的影响。适用于容量法和库仑法卡氏水分测定仪。无副反应干扰测定、无测定杯和传统卡氏炉腔易被样品污染的问题。
  卡氏样品加热处理器仪器结构和控制:
  仪器结构更合理:
  与早期处理器相比,其加热模块更大;同时,增强了散热能力,冷却速度更快,有效缩短更换样品的等待时间。另外,双筒针的导杆由原来的弹簧杆变为现在的单筒滑杆,操作的安全性与简便性进一步提高。
  仪器控制更方便:
  全电子控制温度、气流等参数,确保试验条件的准确性。全新的控制面板,按键指示清楚,简单易懂。液晶屏可同时显示仪器的真实温度、气体流量以及设定的温度等参数。可编程设定两个的温度范围。
  卡氏样品加热处理器样品制备很简单:
  只需把称重后的样品放入样品瓶,然后用封口工具密封即可。覆有PTFE膜的密封盖绝对保证样品在测定过程中不受环境的影响。同时避免了使用样品舟容易污染传统卡氏炉腔的问题。可使用多种规格的样品瓶。
 

2024 版权所有 © 瑞士万通中国有限公司  备案号: sitemap.xml 管理登陆 技术支持:化工仪器网

地址:北京市海淀区上地东路1号院1号楼7层702 传真:010-58851229 邮件:marketing@metrohm.com.cn

关注我们

服务热线

010-58850886

扫一扫,关注我们